納米尺度3D光學干涉測量系統VS1800應用光干涉現象，對微細的表面形貌進行測量，可實現高性能薄膜、半導體、汽車零配件、顯示器等行業所要求的高精度測量。而且還能以無損傷方式進行多層膜的層結構以及層內部的異物測量。

納米尺度3D光學干涉測量系統VS1800應用光干涉現象，對微細的表面形貌進行測量，可實現高性能薄膜、半導體、汽車零配件、顯示器等行業所要求的高精度測量。而且還能以無損傷方式進行多層膜的層結構以及層內部的異物測量。

納米尺度3D光學干涉測量系統VS1800：測量表面形貌的新標準

隨著材料不斷趨向平坦化、薄膜化及結構的微細化，人們開始要求比傳統的普通SPM（掃描探針顯微鏡）、觸針式粗糙度測量儀及激光顯微鏡等產品更高的測量精度。相比較利用光干涉原理的白光干涉掃描顯微鏡，納米尺度3D光學干涉測量系統VS1800，使用更方便，測量精度跟高，測量范圍更大。此外，傳統的采用線粗的測量方式仍存在“測量位置導致的結果偏差"和“掃描方向導致的結果偏差"等重大課題。VS1800的解決對策是通過參照國際標準ISO25178規定的表面形貌評估方法來計算參數，建立測量表面形貌的新標準，從而受到了各界的關注。

原子力顯微鏡的納米尺度3D探針測量系統AFM5500M同樣可實現高度的分辨率為0.1nm以下，與此相比，納米尺度3D光學干涉測量系統VS1800的一大特點在于面內方向的測量范圍更大。發揮兩種測量系統各自的優點，根據需求選擇合適的測量系統有利于生產率的提高。